? 氣體分析系統(tǒng)對(duì)樣品傳輸?shù)幕疽笥心男?/span>

(1)       傳輸滯后時(shí)間不得超過(guò)60s必然趨勢，這就要求氣體分析儀至取樣點(diǎn)的距離盡可能短，傳輸系統(tǒng)的距離盡可能小橋梁作用，樣品流速盡可能快(1.5－3.5m/s之間為宜文化價值，故選擇大功率的真空抽氣泵作為增壓設(shè)備)。

(2)       如果在氣體分析儀允許通過(guò)的流量下優化程度，時(shí)間滯后60s廣度和深度，則應(yīng)采用快速回路系統(tǒng)（如真空抽氣泵抽氣量是6L/ min,但是分析儀只需要500ml/min，多余的樣氣全部排掉）基礎。

(3)       氣體傳輸管線*好是筆直地到達(dá)氣體分析儀日漸深入，只有少數(shù)轉(zhuǎn)角。

(4)       沒(méi)有死的支路和死的體積引領作用。

(5)       對(duì)含有冷凝液的氣體樣品預期，傳輸管線應(yīng)保持一定坡度向下傾斜，低點(diǎn)應(yīng)靠近氣體分析儀并設(shè)有冷凝液收集罐。傾斜坡度一般為1:12顯示，對(duì)于黏滯冷凝液可增至1:5。

(6)       防止相變大局，即在傳輸過(guò)程中豐富內涵，氣體樣品*保持為氣態(tài)，液體樣品*保持為液態(tài)效率和安。

(7)       樣品管線應(yīng)避免通過(guò)的濕度變化區(qū)就能壓製， 它會(huì)引起樣品條件無(wú)控制的變化邁出了重要的一步。

(8)       樣品傳輸系統(tǒng)不得有泄漏，避免樣品外泄或環(huán)境空氣侵入發揮。

? 樣品氣體處理系統(tǒng)的作用是什么品牌？它有什么重要性？

樣品處理系統(tǒng)的作用是保證氣體分析儀在短的滯后時(shí)間內(nèi)得到有代表性的工藝樣品設施，樣品的狀態(tài)(濕度節點、壓力、流量和清潔程度)適合氣體分析儀所需的操作條件要求。

在線氣體分析儀能否用好，往往不在氣體分析儀自身，而是取決于樣品系統(tǒng)的完善程度和可靠性開放以來。因?yàn)榈刃问?，氣體分析儀無(wú)論如何復(fù)雜和精確，分析精度也要受到樣品的代表性組合運用，實(shí)時(shí)性和物理狀態(tài)的限制的特點。事實(shí)上，樣品系統(tǒng)使用中遇到的問(wèn)題往往比氣體分析儀還要多研究與應用，樣品系統(tǒng)的維護(hù)量也往往超過(guò)氣體分析儀本身適應性。所以， 要重視樣品系統(tǒng)的作用要素配置改革，至少要把它放在和分析儀等同的位置上來(lái)考慮。

? 對(duì)氣體樣品系統(tǒng)的基本要求有哪些？

(1)       使氣體分析儀得到的樣品與工藝管線或設(shè)備中物料的組成和含量一致設計標準。

(2)       工藝樣品的消耗量少深度。

(3)       易于操作和維護(hù)。

(4)       能長(zhǎng)期可靠工作經過。

(5)       系統(tǒng)構(gòu)成盡可能簡(jiǎn)單帶來全新智能。

(6)       采用快速回路以減少樣品傳送滯后時(shí)間。

? 取樣點(diǎn)的位置如何選擇核心技術體系？

在工藝管線上選擇氣體分析儀的取樣點(diǎn)位置時(shí)自主研發，應(yīng)遵循下述原則，*佳位置可能是以下各點(diǎn)中某幾點(diǎn)的權(quán)衡：

(1).   取樣點(diǎn)應(yīng)僅位于能反映工藝流體性質(zhì)和組成變化的靈敏點(diǎn)上新產品；

(2).   取樣點(diǎn)應(yīng)僅次于對(duì)過(guò)程控制適宜的位置意向，以避免不必要的工藝滯后；

(3).   取樣點(diǎn)應(yīng)僅次于可用工藝壓差構(gòu)成快速循環(huán)回路的位置更加廣闊；

(4).   取樣點(diǎn)應(yīng)選擇在樣品溫度系統性、壓力、清潔度、干燥度和其他條件盡可能接近氣體分析儀要求的位置損耗，以便使樣品處理部件的數(shù)目減至杏绿叫侣?。ㄔ蕉嗖考鰡?wèn)題的隱患越多）；

(5).   取樣點(diǎn)位置應(yīng)易于從扶梯或固定平臺(tái)接近形式；

(6).   在線分析儀和實(shí)驗(yàn)室分析取樣點(diǎn)應(yīng)分開設(shè)置擴大。

一般認(rèn)為，在大多數(shù)氣體和液體管線中傳遞，從產(chǎn)生良好混合的湍流位置上取樣讓人糾結，可保證樣品真正具有代表性。因?yàn)闅怏w或流體混合物除非有湍流存在是不容易達(dá)到*混合的發揮效力，取樣點(diǎn)可選在一個(gè)或多個(gè)90º彎頭之后全面革新，緊接后一個(gè)彎頭的順流位置上，或選在節(jié)流元件下游一個(gè)相對(duì)平靜的位置上(不要緊靠節(jié)流元件)結構。

盡可能避免以下情況空間廣闊。